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半導體超純水工業廢水的處理
半導體超純水工業廢水介紹
由於超純水廢水的排放標準越來越嚴格，而且新型生產工藝導致超純水工業廢水新型汙染物的突現，使得水處理工藝越來越複雜，因此超純水工業廢水的處理變得越來越重要。
一個現代化的半導體生產廠會產生以下五種廢水:
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酸堿廢水;
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含氫氟酸（HF）廢水;
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含有懸浮性固體和膠體物質的化學和機械拋光（CMP）廢水;
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含銅的CMP廢水;
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含氨和有機物的廢水。
根據環境法規，這些廢水需要經過特定的預處理，然後通常匯集到一起進行中和。
半導體超純水工業廢水的處理工藝介紹
新型超純水工業廢水處理係統能夠處理上述所有類型的廢水。
1、處理含銅的CMP廢水
首先采用混凝—絮凝沉澱以及斜管式澄清池對廢水進行分離，然後經活性炭去除廢水中的有機物，並且采用選擇性離子交換去除水中的銅（Cu<0.1mg/L)。
注意:可以采用電滲析的方法從洗脫液中回收銅。
2、處理含氫氟酸的廢水
采用投加蠶化鈣和澄清的方式將氫氟酸和磷酸鹽一並沉澱。
3、處理含氨的廢水采用生物處理係統: Biofor生物濾池係統可以在去除有機物（主要是可生物降解的乙醇）的同時進行NH;的硝化與反硝化，或者采用三段附著生長型生物處理工藝。最後，處理後的超純水工業廢水匯合到一起被送至中和池，然後經最終過濾後外排至河流。
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