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半導體工業水(超純水)的循環利用
半導體在加工生產中生產需要大量的水資源,而中國缺乏這一點,尤其是在芯片製造集中的地區。在半導體領域，水的循環利用是一個具有爭議的話題。
實際半導體工業上:一方麵，由於半導體生產用水的水質要求較高，即使廢水已經經過很好的處理，仍然存在著汙染生產用水的可能;另一方麵，由於大部分超純水被用作超淨元件的清洗液，其受汙染程度遠低於原水（甚至是飲用水),分離並回收這種超純水能帶來很大的收益。需要注意的是，隻有對循環用水的水質進行準確可靠的監測，才可以調和上述矛盾。
半導體工業水(超純水)循環利用的注意事項
由於保證水質極其重要,循環用水的處理有如下注意事項:
1、處理工藝必須可靠,且留有備用係統;
2、超純水的水質和可用性必須不受水再利用帶來的風險的影響。這意味著任何不能夠在超純水的主處理工藝中被完全去除的物質必須在進入循環水池之前利用特殊工藝去除。
此外，由於水資源的短缺，許多國家最近將水的循環利用率提高到85%，以限製使用自然界的可利用淡水，這便亟須開發新的係統以滿足這一要求。
上圖描述了再循環利用率在85%以上的一個工廠的架構和水量平衡。這一圖表還表明水的循環利用產生的影響是普遍的並影響整個係統。
其他的影響還有：
1、出水殘留物的濃度明顯升高;
2、超純水的處理單元需要處理與原水性質不同的水(低溶解性固體，更多的顆粒物等);
3、此外，生產工藝的任何改變都會對廢水的處理，進而對超純水的處理產生影響，這就要求生產廠家和（廢）水處理廠之間保持密切溝通。
半導體工業水(超純水)循環利用技術
在確定水質的汙染程度不高之後，用於清洗的超純水的處理過程如下:
1、通過超濾膜去除CMP廢水中的懸浮性固體和膠體;
2、通過離子交換係統（弱陰離子樹脂-強陽離子樹脂-強陰離子樹脂處理係統）去除離子;
3、異丙醇（IPA）是主要的有機物，其能夠通過生物濾池、多層濾池、活性炭和反滲透係統的多級組合工藝而被去除。然後，水被循環進入超純水的補給水循環入口。
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