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半導體超純水係統工藝介紹
半導體超純水係統工藝介紹
超純水要求盡可能去除水中的離子DO(溶解氧)TOC(總有機碳)等雜質，使其成分無限趨近於100%的水分子，25℃時理論電阻率可達18.3Mcm]以應用於對水質純度要求極高的場合。在半導體產品生產過程中，超純水主要用於清洗各種產品，其水質對產品質量、性能會產生重大影響，穩定的超純水係統成為半導體產線不可或缺的配套係統之一。
目前，在半導體行業得到廣泛應用的超純水製備技術主要有離子交換法和電去離子法(EDI)其中離子交換法主要通過離子交換樹脂吸附水中的陰、陽離子，提高電阻率，同時配置去除DO、降解 TOC的裝置，該工藝具有製備水量大、出水水質穩定、工藝成熟、運行穩定、操作難度低、運行成本低等優點。
離子交換法是超純水係統常用的2種成熟工藝路線之一，已在電子、醫藥、化工等行業超純水製備係統中得到廣泛應用，也是最適合本項目需求的工藝路線。上海亚洲线精品一区二区三区八戒將從設計和設備配置，各係統設備造價組成、主要設備造價組成3個方麵分析了項目造價情況:設備是影響材料部分造價的主要因素，占比接近50%;半導體超純水製備係統核心材料仍以進口為主拋光係統和MAKEUP係統設備是設備總造價的絕對主體，占比接近70%;TOC-UV、樹脂、脫氣膜價格昂貴，合計占設備總造價比例接近60%。本項目工藝設計、造價信息可供類似項目參考。
下一個: 實驗室整體中央超純水係統
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